| 发明名称 |
光阻保护膜材料、及形成图型之微影方法 |
| 摘要 |
本发明系有关一种含有以下述一般式(1a)及(1b)所示之重复单位，重量平均分子量为1,000~500,000之范围的高分子化合物。;(1a) (1b);(R1a及R1b系为H、F、烷基或氟化烷基。R2a、R2b、R3a及R3b系为H、烷基或氟化烷基。R2a及R2b、R3a及R3b可各自键结，与此等键结的碳原子共同形成环，此时，形成环之R2a、R2b、R3a及R3b为亚烷基或氟化亚烷基。0<a<1、0<b<1、a+b=1。n为1~4之整数)。;本发明之光阻保护膜材料，防水性及疏水性优异，于ArF液浸微影术中就防止水之浸透或光阻剂中添加物之渗出情形而言，可发挥优异的性能。另外，本发明之光阻保护膜，由于具有硷溶解性，故于显像制程时可进行保护膜之剥离处理。 |
| 申请公布号 |
TWI457700 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
| 申请号 |
TW096137142 |
申请日期 |
2007.10.03 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
原田裕次;畠山润;长谷川幸士 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/11;G03F7/20;C08F220/28;C08F20/22 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种光阻保护膜材料，其包含具有下述一般式(1a)及(1b)所示之重复单位，重量平均分子量为1,000~500,000之范围的高分子化合物，(式中，R1a及R1b系各自独立地为氢原子、氟原子、或碳数1~4之直链状或支链状烷基或氟烷基；R2a、R2b、R3a及R3b系各自独立地为氢原子、或碳数1~20之直链状、支链状或环状烷基；或R2a及R2b、和R3a及R3b可与彼所键结的碳原子共同形成环，和当其形成环时，R2a、R2b、R3a及R3b各自为碳数1~20之直链状、支链状或环状伸烷基；0<a1<1、0<b1<1、0<a1+b1≦1；且n为1~4之整数)，和选自由下列所组成之群组的溶剂：二异戊醚、二正戊醚、甲基环戊醚、甲基环己醚、二-第2-戊醚、二-第3-戊醚、和二正己醚。 |
| 地址 |
日本 |
