曝光装置、曝光方法、及元件制造方法

摘要

藉由水压衬垫32与水压衬垫34，来挟持晶圆W及装载该晶圆之台TB。藉由水压衬垫32，该轴承面与晶圆W于投影光学系统PL光轴方向之间隔，被维持在既定尺寸。又，由于水压衬垫不同于空气静压轴承，系利用轴承面与支持对象物(基板)间之非压缩性流体(液体)之静压，故轴承之刚性高，轴承面与基板间之间隔稳定，且保持一定。又，液体(例如纯水)之黏性较气体(例如空气)为高，液体之振动衰减性较气体良好。因此，不一定需要设置焦点位置检测系统等，即能实现在无散焦的情形下将图案转印至晶圆(基板)上。

主权项

一种曝光装置，系透过投影光学系统与液体使基板曝光，其特征在于，具备：第1、第2台，分别载置基板；液浸系统，将液体供应至前述投影光学系统之下；以及驱动系统，使前述第1、第2台分别从用以配置前述投影光学系统之第1区域与和前述第1区域不同之第2区域之一方移动至另一方，且从前述第2区域往前述第1区域之移动与从前述第1区域往前述第2区域之移动系经由不同路径移动；前述驱动系统使一方与前述投影光学系统对向配置之前述第1、第2台以彼此接近之方式相对移动，且以维持藉由前述供应之液体形成于前述投影光学系统之下之液浸区域之前述一方之台置换成前述第1、第2台之另一方之方式使前述已接近之第1、第2台在前述投影光学系统之下方相对前述液浸区域移动。