发明名称 液晶显示装置之制造方法及其制造装置
摘要 本发明系提供一种于TFT基板与对向电极基板之间以矩阵状形成复数个画素,且在密封有液晶的液晶显示用基板之该各画素处施加一电场的状态下,将特定波长之光线照射于该液晶显示用基板,而使得该液晶分子配向至特定方向的液晶显示装置之制造方法,其系进行下述步骤:使该液晶显示用基板与灯于对向设置的状态下,将之浸入于一具有特定以上之电阻率并对该光线具有非常高的穿透率之透明液体中的步骤;以及,于该各画素处施加一特定量之电场的状态下,点亮该灯而对该液晶显示用基板照射一特定光量之该光线的步骤。
申请公布号 TWI457668 申请公布日期 2014.10.21
申请号 TW098111591 申请日期 2009.04.07
申请人 V科技股份有限公司 日本 发明人 梶山康一;水村通伸;桥本和重
分类号 G02F1/1337 主分类号 G02F1/1337
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种液晶显示装置之制造方法,进行有下述配向处理:系于TFT基板与对向电极基板之间以矩阵状形成复数个画素,且在密封有液晶的液晶显示用基板之该各画素处施加一电场的状态下,将特定波长之光线照射于该液晶显示用基板,而使得该液晶显示用基板之显示区域内的液晶分子配向至特定方向,即便移除对该各画素之电场后,该液晶分子往该特定方向之配向状态仍被维持;其特征在于包含下述步骤:使该液晶显示用基板与灯于对向设置的状态下,将之浸入于一具有特定以上之电阻率并对该光线具有非常高的穿透率之透明液体中的步骤;以及于该各画素处施加一特定量之电场的状态下,点亮该灯而对该液晶显示用基板照射一特定光量之该光线的步骤。
地址 日本
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