发明名称 |
节省电子元件制造资源之方法与装置 |
摘要 |
本发明提供一种操作一电子元件制造系统的方法,其包含:当一制程工具以一制程模式操作时,将一惰性气体以一第一流速引至该制程工具真空泵中;及当该制程工具以一清洁模式操作时,将该惰性气体以一第二流速引至制程工具真空泵中。本发明亦提供多个其他实施例。 |
申请公布号 |
TWI457994 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
申请号 |
TW098109755 |
申请日期 |
2009.03.25 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
克拉克丹尼尔O;钱勒菲尔;琴杰J |
分类号 |
H01L21/30;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/30 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种操作一电子元件制造系统的方法,该方法包含:当一制程工具以一制程模式操作时,将一惰性气体以一第一流速从一独立供应源引至该制程工具真空泵中;及当该制程工具在一清洁模式操作时,将该惰性气体以一第二流速从一独立供应源引至该制程工具真空泵中。 |
地址 |
美国 |