| 发明名称 |
Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zu seiner Herstellung |
| 摘要 |
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats, zum Aufwachsen einer ersten Schicht, zum Durchführen eines Ätzprozesses, um V-Defekte anzulegen, zum Aufwachsen einer zweiten Schicht, und zum Aufwachsen einer Quantenfilmstruktur. |
| 申请公布号 |
DE102013103602(A1) |
申请公布日期 |
2014.10.16 |
| 申请号 |
DE201310103602 |
申请日期 |
2013.04.10 |
| 申请人 |
OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH |
发明人 |
LÖFFLER, ANDREAS;MEYER, TOBIAS;BAUER, ADAM;LEIRER, CHRISTIAN |
| 分类号 |
H01L33/32;H01L33/04;H01L33/22;H01L33/24 |
主分类号 |
H01L33/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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