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经营范围
发明名称
半导体装置和其制造方法,以及电子设备;SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC APPARATUS
摘要
提供一种半导体装置作为背照明式固态成像装置。藉由将具有在半完成产品状态中之画素阵列的该第一半导体晶圆与具有在半完成产品状态中之逻辑电路的该第二半导体晶圆接合在一起、将该第一半导体晶圆变成薄膜、电性连接该画素阵列及该逻辑电路、使该画素阵列及该逻辑电路处于完成产品状态中、以及将接合在一起的该第一半导体晶圆及该第二半导体晶圆分成微晶片来制造该装置。
申请公布号
TW201440209
申请公布日期
2014.10.16
申请号
TW103110878
申请日期
2010.03.08
申请人
新力股份有限公司
发明人
梅林拓;高桥洋;庄子礼二郎
分类号
H01L27/146(2006.01)
主分类号
H01L27/146(2006.01)
代理机构
代理人
<name>林志刚</name>
主权项
地址
日本
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