发明名称 Plasmazelle zur Filterung von VUV-Strahlung in einer mittels eines Lasers aufrechterhaltenen Plasmalichtquelle
摘要 Eine Plasmazelle (100) zur Verwendung in einer mittels Laser aufrechterhaltenen Plasmalichtquelle umfasst einen Plasmakolben (102), der derart konfiguriert ist, dass er ein zur Erzeugung eines Plasmas (106) geeignetes Gas enthält. Der Plasmakolben (102) ist im Wesentlichen für Licht von einem Pumplaser transparent, um das Plasma (106) innerhalb des Plasmakolbens (102) aufrecht zu erhalten. Der Plasmakolben (102) ist im Wesentlichen transparent für mindestens einen Abschnitt eines sammelbaren spektralen Bereichs der Beleuchtung, die durch das Plasma (106) emittiert wird. Eine Filterschicht (104) ist auf einer inneren Oberfläche des Plasmakolbens (102) angeordnet, wobei die Filterschicht (104) so konfiguriert ist, dass sie einen ausgewählten Spektralbereich der vom Plasma (106) emittierten Beleuchtung blockiert.
申请公布号 DE112013000595(T5) 申请公布日期 2014.10.16
申请号 DE20131100595T 申请日期 2013.01.17
申请人 KLA-TENCOR CORP. 发明人 BEZEL, ILYA V.;PANZER, MATTHEW;DERSTINE, MATTHEW W.;PATIL, RAJEEV;SHCHEMELININ, ANATOLY;SHIFRIN, EUGENE;WANG, JINCHENG;CHIMMALGI, ANANT;BRUNNER, RUDOLF
分类号 H01J65/04 主分类号 H01J65/04
代理机构 代理人
主权项
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