发明名称 光阻组成物,光阻图型之形成方法;RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
摘要 一种光阻组成物,其特征为,含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A),其中,基材成份(A)为含有,具有通式(a0-1)所表示之结构单位(a0),与至少2种以上之含有通式(a1-r-1)、(a1-r-2)之基的结构单位(a1),与结构单位(a2)的树脂成份(A1)。;[式(a0-1)中,Ra1为1价之取代基,La1为O、S或伸甲基,R1为可具有取代基之C2~20之直链状、支链状之烃基,或环状之烃基。式(a1-r-1)中,Ra'1、Ra'2为H或烷基,Ra'3为烃基。式(a1-r-2)中,Ra'4~Ra'6为烃基]。
申请公布号 TW201439670 申请公布日期 2014.10.16
申请号 TW102142460 申请日期 2013.11.21
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 新井雅俊;太宰尙宏;内海义之
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/311(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本