发明名称 画素结构及其制作方法;PIXEL STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
摘要 本发明提供一种画素结构及其制作方法。通道层设置于基板之上,且源极与汲极分别设置于通道层之两侧上。资料线与源极电性连接。第一绝缘层设置于通道层、源极、汲极以及资料线上,且具有第一开口,曝露出汲极。扫描线与资料线交错设置。闸极与通道层对应设置,并电性连接于扫描线。画素电极设置于第一绝缘层上,且透过第一开口电性连接汲极。第二绝缘层设置于画素电极以及第一绝缘层上,且图案化共用电极设置于第二绝缘层上。
申请公布号 TW201439656 申请公布日期 2014.10.16
申请号 TW102112191 申请日期 2013.04.03
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 陈铭耀;陈培铭
分类号 G02F1/1362(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/84(2006.01) 主分类号 G02F1/1362(2006.01)
代理机构 代理人 <name>吴丰任</name><name>戴俊彦</name>
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号