发明名称 | 画素结构及其制作方法;PIXEL STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME | ||
摘要 | 本发明提供一种画素结构及其制作方法。通道层设置于基板之上,且源极与汲极分别设置于通道层之两侧上。资料线与源极电性连接。第一绝缘层设置于通道层、源极、汲极以及资料线上,且具有第一开口,曝露出汲极。扫描线与资料线交错设置。闸极与通道层对应设置,并电性连接于扫描线。画素电极设置于第一绝缘层上,且透过第一开口电性连接汲极。第二绝缘层设置于画素电极以及第一绝缘层上,且图案化共用电极设置于第二绝缘层上。 | ||
申请公布号 | TW201439656 | 申请公布日期 | 2014.10.16 |
申请号 | TW102112191 | 申请日期 | 2013.04.03 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈铭耀;陈培铭 |
分类号 | G02F1/1362(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/84(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | <name>吴丰任</name><name>戴俊彦</name> | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |