| 发明名称 | 基板处理装置，基板处理方法及记忆媒体 | ||
| 摘要 | [课题]不需牺牲制程性能而使清净气体之供给流量减少。[解决手段]使在基板进行乾燥处理时从清净气体供给装置供给之低湿度之清净气体(78)的流量小于在基板(W)进行液体处理时从清净气体供给装置(70,78)被供给至壳体(60)之内部空间之清净气体(70)的流量,且使在进行乾燥处理时通过壳体排气路径所排气之气体的流量小于在进行液体处理时通过壳体排气路径(64)所排气之气体的流量。 | ||
| 申请公布号 | TW201440133 | 申请公布日期 | 2014.10.16 |
| 申请号 | TW102141258 | 申请日期 | 2013.11.13 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 大塚贵久;绪方信博;丸本洋;脇山辉史 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | <name>林志刚</name> | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本 | ||