以气相沉积来沉积的光阻剂以及对于此光阻剂的制造与微影系统;VAPOR DEPOSITION DEPOSITED PHOTORESIST, AND MANUFACTURING AND LITHOGRAPHY SYSTEMS THEREFOR

摘要

一光阻剂气相沉积系统包含：一真空腔室，该真空腔室具有一加热元件以及用于支撑一基材之冷却卡盘，该真空腔室具有一加热入口；以及一气相沉积系统，该气相沉积系统连接至该加热入口，以将一前驱物挥发至该真空腔室之中，以在由该冷却卡盘所冷却的该基材上凝结一光阻剂。该沉积系统建立一半导体晶圆系统，该半导体晶圆系统包含：一半导体晶圆，以及在该半导体晶圆上之一气相沉积光阻剂。需要该半导体晶圆系统之一极紫外光微影系统包含：一极紫外光光源；一镜体，该镜体用于引导来自该极紫外光光源的光；一标线片台，该标线片台用于使来自该极紫外光光源的光成像；以及一晶圆台，该晶圆台用于放置具备一气相沉积光阻剂之一半导体晶圆。