感光性组成物、光硬化性组成物、化学增幅型抗蚀剂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件;PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOCURABLE COMPOSITION, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

本发明提供一种感光性组成物，其藉由含有特定结构的化合物，而高效地产生硷，尤其当用作光硬化性组成物时，感度、反应对比度及显影性优异，所形成的硬化膜的残膜率、耐溶剂性及热稳定性优异，另外，当用作抗蚀剂组成物时，解析力、LER性能、所形成的图案的形状及浮渣性能优异。该感光性组成物含有由下述通式(I)所表示的化合物。;通式(I)中，Y表示一价的有机基。R 1 表示一价的有机基。R 2 及R 2' 分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、或杂芳基。R 2 及R 2' 可相互键结而形成含氮杂环基。