用于铜之ＵＶ辅助反应性离子蚀刻;UV-ASSISTED REACTIVE ION ETCH FOR COPPER

摘要

在一些实施例中,提供一种用于蚀刻铜的电浆蚀刻设备,该电浆蚀刻设备包括(1)具有制程腔室的电浆主体,该制程腔室适用于接收基板;(2)耦接至RF电极的射频(RF)源;(3)位于该制程腔室中并适用于支撑基板的基座;以及(4)设以在该电浆蚀刻设备内进行的蚀刻制程之至少一部分期间递送紫外光至该制程腔室的紫外光源。亦提供了许多其他的态样。