发明名称 背面照射型固体拍摄装置及其制造方法
摘要 根据一实施例,背面照射型固体拍摄装置包括:半导体基板,其具有第1导电型;阱区域,其配置在上述半导体基板的表面侧,且具有第1导电型;多个光电二极管,其配置在上述阱区域内,且具有第2导电型;扩散层,其配置在上述多个光电二极管之间,并向上述阱区域提供电位,且具有第1导电型;溢漏层,其配置在上述半导体基板的背面侧,且具有第2导电型;溢漏电极,其从上述半导体基板的表面侧延伸至上述溢漏层,从上述半导体基板的表面侧向上述溢漏层提供偏置电位;以及布线层,其配置在上述半导体基板的表面上。
申请公布号 CN102569312B 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201110316954.X 申请日期 2011.10.18
申请人 株式会社 东芝 发明人 佐藤麻纪
分类号 H01L27/146(2006.01)I;H04N5/335(2011.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 周春燕;陈海红
主权项 一种背面照射型固体拍摄装置,包括:半导体基板,其具有第1导电型;阱区域,其配置在上述半导体基板的表面侧,且具有第1导电型;多个光电二极管,其配置在上述阱区域内,且具有第2导电型;扩散层,其配置在上述多个光电二极管之间,并向上述阱区域提供电位,且具有第1导电型;溢漏层,其配置在上述半导体基板的背面侧,且具有第2导电型;溢漏电极,其从上述半导体基板的表面侧延伸至上述溢漏层,从上述半导体基板的表面侧向上述溢漏层提供偏置电位;以及布线层,其配置在上述半导体基板的表面上。
地址 日本东京都
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