发明名称 |
背面照射型固体拍摄装置及其制造方法 |
摘要 |
根据一实施例,背面照射型固体拍摄装置包括:半导体基板,其具有第1导电型;阱区域,其配置在上述半导体基板的表面侧,且具有第1导电型;多个光电二极管,其配置在上述阱区域内,且具有第2导电型;扩散层,其配置在上述多个光电二极管之间,并向上述阱区域提供电位,且具有第1导电型;溢漏层,其配置在上述半导体基板的背面侧,且具有第2导电型;溢漏电极,其从上述半导体基板的表面侧延伸至上述溢漏层,从上述半导体基板的表面侧向上述溢漏层提供偏置电位;以及布线层,其配置在上述半导体基板的表面上。 |
申请公布号 |
CN102569312B |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
申请号 |
CN201110316954.X |
申请日期 |
2011.10.18 |
申请人 |
株式会社 东芝 |
发明人 |
佐藤麻纪 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I;H04N5/335(2011.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
周春燕;陈海红 |
主权项 |
一种背面照射型固体拍摄装置,包括:半导体基板,其具有第1导电型;阱区域,其配置在上述半导体基板的表面侧,且具有第1导电型;多个光电二极管,其配置在上述阱区域内,且具有第2导电型;扩散层,其配置在上述多个光电二极管之间,并向上述阱区域提供电位,且具有第1导电型;溢漏层,其配置在上述半导体基板的背面侧,且具有第2导电型;溢漏电极,其从上述半导体基板的表面侧延伸至上述溢漏层,从上述半导体基板的表面侧向上述溢漏层提供偏置电位;以及布线层,其配置在上述半导体基板的表面上。 |
地址 |
日本东京都 |