| 发明名称 | 磁记录介质的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量。所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。 | ||
| 申请公布号 | CN104103292A | 申请公布日期 | 2014.10.15 |
| 申请号 | CN201410116219.8 | 申请日期 | 2014.03.26 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 冈部健彦;藤克昭 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01)I;G11B5/725(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 李照明;段承恩 |
| 主权项 | 一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法，其特征在于：所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体，其中：所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量；及所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||