发明名称 一种扇出型方片级半导体芯片封装工艺
摘要 本发明提供了一种扇出型方片级半导体芯片封装工艺,有效保证了加工尺寸最大化,提升了产能、降低了制作成本、解决了制造过程中翘曲等因素的影响,其包括以下步骤:在承载片正背面制作对准标记;在承载片正背面贴临时键合材料;在承载片正背面贴装芯片;在承载片正背面涂覆第一类绝缘树脂;在第一类绝缘树脂上开窗,形成导通孔;沉积种子层,在种子层上面涂覆光刻胶,在光刻胶上显露出图形,在光刻胶显露出的图形区中形成电镀线路;去除电镀线路和电镀线路底部以外的种子层;涂覆第二类绝缘树脂,在第二类绝缘树脂上对应芯片开窗;去除承载片和热剥离临时键合材料,芯片上增加保护层;通过切割工艺将产品分割成多个芯片。
申请公布号 CN104103528A 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201410351678.4 申请日期 2014.07.22
申请人 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 发明人 陈峰
分类号 H01L21/50(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L21/50(2006.01)I
代理机构 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人 任益
主权项 一种扇出型方片级半导体芯片封装工艺,其特征在于:其包括以下步骤:(1)、在承载片上正背面制作对准标记; (2)、在承载片正背面与背面覆盖临时键合材料;(3)、在承载片正背面的临时键合材料上间隔排布贴装芯片;(4)、在承载片正背面涂覆第一类绝缘树脂,第一类绝缘树脂覆盖芯片;(5)、在第一类绝缘树脂上开窗,形成导通孔,将芯片的焊盘露出;(6)、在导通孔和第一类绝缘树脂上沉积种子层,在种子层上面涂覆光刻胶,在光刻胶上显露出图形,在光刻胶显露出的图形区中形成电镀线路;(7)、去除光刻胶和光刻胶底部的种子层,保留电镀线路和电镀线路底部的种子层;(8)、在承载片正面和背面分别涂覆第二类绝缘树脂,在第二类绝缘树脂上对应芯片开窗露出电镀线路层形成焊盘;(9)、去除承载片和临时键合材料, 在芯片上面增加保护层;(10)、通过切割工艺将产品分割成多个芯片。
地址 214135 江苏省无锡市菱湖大道200号中国传感网国际创新园D1栋