发明名称 靶及具备该靶的成膜装置
摘要 本发明提供即使为烧结体靶也能够降低运转成本的靶及具备该靶的成膜装置。通过夹具(27)固定于冷却板(22)的靶(25)为包含作为金属粉体的Zn粉体和熔点高于Zn的熔点的作为金属氧化物的ZnO粉体的混合物在由t<sub>0</sub><T<t<sub>1</sub>表示的烧结温度T下烧结而成的低氧化物烧结体,其中,在上述公式中,t<sub>0</sub>为Zn的熔点,t<sub>1</sub>为ZnO的熔点或升华点。
申请公布号 CN102586745B 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201210008545.8 申请日期 2012.01.12
申请人 住友重机械工业株式会社 发明人 岩田宽;金子博
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 周欣
主权项 一种靶,其通过夹具而被固定于保持部件上,其特征在于,该靶为包含金属粉体和熔点高于所述金属熔点的金属氧化物粉体的混合物在由下述公式表示的烧结温度T下烧结而成的低氧化物烧结体,t<sub>0</sub><T<t<sub>1</sub>,其中,在上述公式中,t<sub>0</sub>为所述金属的熔点,t<sub>1</sub>为所述金属氧化物的熔点或升华点,所述烧结体的与接触于所述保持部件的接触面平行的面内方向上的外侧端部与中央部相比,所述金属相对于所述金属氧化物的成分比例较高。
地址 日本东京都