发明名称 MoS<sub>2</sub>带孔纳米片/石墨烯复合纳米材料及制备方法
摘要 本发明公开了一种MoS<sub>2</sub>带孔纳米片/石墨烯复合纳米材料及其制备方法,其由单层和少层数的MoS<sub>2</sub>带孔纳米片与石墨烯复合构成,MoS<sub>2</sub>与石墨烯之间的物质的量之比为1:1-1:3。其制备方法是首先将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,再加入阳离子型柱[5]芳烃超分子,并充分搅拌,然后依次加入L-半胱氨酸和钼酸钠,充分搅拌使其溶解,将上述混合分散体系转移到水热反应釜中,于230-250℃下水热反应20-24h后,自然冷却至室温,离心收集水热固体产物,用去离子水充分洗涤,干燥,最后在氮气/氢气混合气氛中热处理,制备得到MoS<sub>2</sub>带孔纳米片/石墨烯复合纳米复合材料。本发明的方法具有简单、方便的优点。
申请公布号 CN104103829A 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201410339848.7 申请日期 2014.07.17
申请人 浙江大学 发明人 陈卫祥;叶剑波;马琳;马英杰
分类号 H01M4/58(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 H01M4/58(2010.01)I
代理机构 杭州赛科专利代理事务所 33230 代理人 冯年群
主权项 一种MoS<sub>2</sub>带孔纳米片/石墨烯的复合纳米材料,其特征在于,该复合纳米材料由MoS<sub>2</sub>带孔纳米片与石墨烯复合构成,所述MoS<sub>2</sub>带孔纳米片为单层或少层数的层状结构,MoS<sub>2</sub>带孔纳米片与石墨烯之间的物质的量之比为 1:1‑1:3。
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