| 发明名称 | 粉粒产生少的强磁性材料溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种非磁性材料分散型溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶组织具有在金属基质中分散有包含氧化物的非磁性材料的相（A）和含有40摩尔%以上的Co的金属相（B），所述相（A）中包含氧化物的非磁性材料粒子的面积率为50%以下，并且在假想与所述相（B）外切的面积最小的长方形的情况下，该外切的长方形的短边为2μm～300μm的相（B）的存在率为全部相（B）的90%以上。本发明得到可以抑制溅射时的粉粒产生，并且使漏磁通提高、在磁控溅射装置中可以稳定的放电的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN104105812A | 申请公布日期 | 2014.10.15 |
| 申请号 | CN201280023523.7 | 申请日期 | 2012.04.06 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 荻野真一;佐藤敦;荒川笃俊;中村祐一郎 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C19/07(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种非磁性材料分散型溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶组织具有在金属基质中分散有包含氧化物的非磁性材料的相（A）和含有40摩尔%以上的Co的金属相（B），所述相（A）中包含氧化物的非磁性材料粒子的面积率为50%以下，并且在假想与所述相（B）外切的面积最小的长方形的情况下，外切的长方形的短边为2μm～300μm的相（B）的存在率为全部相（B）的90%以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||