发明名称 等离子体浸没式离子注入机的控制方法
摘要 本发明涉及一种具有等离子体电源(AP)和衬底电源(PS)的离子注入机的控制方法,该衬底电源包括:发电机(HT)、在所述发电机和该衬底电源的输出端子之间连接的第一断路器(SW1)、在所述输出端子和一个中性端子之间连接的第二断路器(SW2),所述方法包括注入阶段(A-D)和中和阶段(E-H)。该方法还包括与所述注入阶段和所述中和阶段部分重叠的释放阶段(C-F),在该释放阶段期间所述等离子体电源为去激励状态。另外,所述中和阶段包括用于关闭第二断路器的预备步骤(E-F),该预备步骤后跟有用于激励等离子体电源(AP)的消除步骤(F-G)。
申请公布号 CN104106124A 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201280049352.5 申请日期 2012.10.04
申请人 离子射线服务公司 发明人 F·托瑞格罗萨;L·洛克斯
分类号 H01J37/32(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I;H01L21/223(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 郭思宇
主权项 一种离子注入机的控制方法,所述离子注入机包括等离子体电源(AP)和衬底电源(PS),所述衬底电源包括:‑发电机(HT),所述发电机(HT)的正极接地,‑第一断路器(SW1),所述第一断路器的第一极连接至所述发电机(HT)的负极,并且所述第一断路器的第二极连接至所述衬底电源的输出端子(S),‑第二断路器(SW2),所述第二断路器的第一极连接至所述输出端子(S),并且所述第二断路器的第二极连接至中性端子(N),所述方法包括注入阶段(A‑D),在该注入阶段期间:‑所述等离子体电源被激励,‑所述第一断路器(SW2)被闭合,‑所述第二断路器(SW2)被打开,所述方法还包括中和阶段(E‑H),在该中和阶段期间:‑所述第一断路器(SW1)被打开,‑所述第二断路器(SW2)被闭合,所述方法的特征在于:‑还包括与所述注入阶段和所述中和阶段部分重叠的释放阶段(C‑F),在该释放阶段持续期间所述等离子体电源(AP)为去激励状态,‑所述中和阶段包括用于闭合所述第二断路器(SW2)的预备步骤(E‑F),该预备步骤之后是用于激励所述等离子体电源(AP)的消除步骤(F‑G)。
地址 法国佩尼耶
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