| 发明名称 |
TITANIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
Disclosed are titanium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The compounds may be used to deposit titanium, titanium oxide, strontium-titanium oxide, and barium strontium titanate containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition. |
| 申请公布号 |
EP2556181(A4) |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
| 申请号 |
EP20110766624 |
申请日期 |
2011.04.06 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE SOCIÉTÉ ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCÉDÉS GEORGES CLAUDE |
发明人 |
PALLEM, VENKATESWARA, R.;DUSSARRAT, CHRISTIAN |
| 分类号 |
C23C16/30;C07F7/28;C23C16/16;C23C16/18;C23C16/22;C23C16/40;C23C16/455;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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