发明名称 |
用于沉积碳膜的设备以及用于沉积碳膜的方法 |
摘要 |
一种用于沉积碳膜的设备包括具有气体导入管的喷嘴,所述气体导入管用于在其内部上间隔地形成用于将原料气体送出到处理室的多个出口和用于与每个出口连通的气体流路。气体导入管的与形成多个出口的区域对应的管壁以阶梯状的方式来形成,使得管壁的流动路径直径减小至足以通过原料供应装置与原料气体供应侧相分离。 |
申请公布号 |
CN104105815A |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
申请号 |
CN201380008717.4 |
申请日期 |
2013.02.07 |
申请人 |
株式会社捷太格特 |
发明人 |
铃木雅裕;山川和芳;齐藤利幸 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
顾晋伟;冷永华 |
主权项 |
一种用于在基材的表面上沉积碳膜的碳膜沉积设备,包括:处理室;容纳在所述处理室中并保持所述基材的基材保持装置;具有用于将源气体送出到所述处理室中的多个出口并且包括在其中限定有与所述多个出口中的每一个连通的气体流路的气体导入管的喷嘴;以及用于向所述气体导入管供应含有碳基化合物的源气体的源气体供应装置,其中所述气体导入管的管壁的与所述多个出口的形成区域对应的部分形成为具有阶梯形状,使得所述管壁的所述气体流路的直径随着距所述源气体供应装置的源气体供应侧的距离的增加而变小。 |
地址 |
日本大阪府大阪市 |