| 发明名称 | 从气流中去除氢和一氧化碳杂质 | ||
| 摘要 | 从包含杂质的干气中去除氢和一氧化碳杂质，其中所述干气至少基本不含二氧化碳，以足够的停留时间，例如至少1.5s，使干气通过包含氧化锰和氧化铜的混合物的催化剂层。可因此避免使用昂贵的贵金属催化剂来去除氢。此外，使用含氧再生气体再生催化剂不会降低催化剂的有效性。 | ||
| 申请公布号 | CN104096475A | 申请公布日期 | 2014.10.15 |
| 申请号 | CN201410141727.1 | 申请日期 | 2014.04.10 |
| 申请人 | 气体产品与化学公司 | 发明人 | T.C.戈登;J.R.胡夫顿;M.阿利卡尔巴西;G.C.刘;C.沃维鲁;C.J.赖斯维尔;C.苏吉特;D.P.兹维林 |
| 分类号 | B01D53/86(2006.01)I;B01D53/62(2006.01)I;B01D53/46(2006.01)I;B01D53/74(2006.01)I | 主分类号 | B01D53/86(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 周李军;杨思捷 |
| 主权项 | 从包含氢和一氧化碳杂质的干气中去除所述杂质的方法，其中所述干气至少基本不含二氧化碳，所述方法包含：使所述干气通过包含氧化锰和氧化铜的混合物的催化剂层，有足够的停留时间以生产至少基本不含氢和一氧化碳的产物气。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||