发明名称 |
一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备 |
摘要 |
本发明提供一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备,其用于根据工艺需求向反应腔室内部的不同区域输送工艺气体,且包括进气口、扩散板和第一驱动源,其中,进气口的下端与反应腔室的内部连通;扩散板与进气口的下端形成水平进气口,且扩散板包括中心柱和至少两个扇叶,至少两个扇叶环绕中心柱间隔设置,且与中心柱可上下摆动地连接;第一驱动源用于单独和/或同时驱动至少两个扇叶向上或向下摆动,以改变扇叶所在平面与进气口之间的角度。本发明提供的进气装置不仅可以使不同的工艺均能够获得理想的气体扩散效果,而且还可以使自水平进气口喷出的工艺气体朝各个方向扩散的扩散半径趋于均匀。 |
申请公布号 |
CN104099583A |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
申请号 |
CN201310121123.6 |
申请日期 |
2013.04.09 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
杨斌;郑友山 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
彭瑞欣;张天舒 |
主权项 |
一种进气装置,用于根据工艺需求,向反应腔室内部的不同区域输送工艺气体,其特征在于,所述进气装置包括中央进气口、扩散板和第一驱动源,其中所述中央进气口的下端与所述反应腔室的内部连通;所述扩散板与所述中央进气口的下端形成水平进气口,且所述扩散板包括中心柱和至少两个扇叶,所述至少两个扇叶环绕所述中心柱间隔设置,且与所述中心柱可上下摆动地连接;所述第一驱动源用于单独和/或同时驱动所述至少两个扇叶向上或向下摆动,以改变所述扇叶所在平面与所述中央进气口之间的角度。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |