用于去除残留物的水性清洗组合物及使用该组合物的方法

摘要

用于去除残留物的水性清洗组合物及使用该组合物的方法在此描述了一种用于从基底上去除残留物的组合物和使用该组合物的方法，所述残留物例如但不限于蚀刻后和/或灰化后的光刻胶，等离子蚀刻、灰化产生的残留物，以及它们的混合物。一方面，提供了一种从基底上去除残留物的方法，该方法包括：用组合物接触基底，该组合物包括：水；季铵氢氧化物；含氟化合物；和任选的缓蚀剂，其中该组合物不含添加的有机溶剂并且其中该组合物的pH大于9。

主权项

一种用于从基底上去除残留物的组合物，该组合物由下列物质组成：水；季铵氢氧化物，其包括具有通式[N‑R₁R₂R₃R₄]⁺OH^‑的化合物，其中R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地是烷基、羟基烷基及它们的组合；含氟化物的化合物，其包括选自以下的至少一种：具有通式R₅R₆R₇R₈NF的化合物，其中R₅、R₆、R₇和R₈各自独立地是氢、醇基、烷氧基、烷基及它们的组合；氟硼酸、氢氟酸、氟化胆碱、氟硼酸盐、六氟化铝；脂族伯、仲或叔胺的氟化物盐；和它们的混合物；任选的缓蚀剂，选自下列当中的至少一种：有机酸、有机酸盐、邻苯二酚、间苯二酚、苯酚、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、连苯三酚、苯并三唑、二乙基羟基胺、果糖、硫代硫酸铵、四甲基胍、硫甘油、没食子酸的酯和它们的混合物，和其中该组合物不含添加的有机溶剂，并且其中该组合物具有大于9的pH。