发明名称 |
以模型化光罩转角变圆作用,决定改良制程模型的方法与其电脑可读取储存媒体 |
摘要 |
一种实施例提供以模型化光罩转角变圆(MCR)作用来决定一改良制程模型之系统与技术。在操作时,该系统接收一光罩布局及制程资料,其系藉由施加一光微影制程至该光罩布局加以产生。该系统同时也接收一未校正制程模型,其可以包含一组MCR元件。再者,该系统可以指明一组在光罩布局中之转角。该系统可以然后邻近该组转角以修改该光罩布局,以取得一修改光罩布局。或者,该系统可以决定一组光罩层。再者,该系统可以藉由使用该修改光罩布局及/或该组光罩层,及该制程资料,以校正该未校正制程模型,来决定一改良制程模型。 |
申请公布号 |
TWI456420 |
申请公布日期 |
2014.10.11 |
申请号 |
TW096150566 |
申请日期 |
2007.12.27 |
申请人 |
希诺皮斯股份有限公司 美国 |
发明人 |
黄振声;郭俊杰;劳伦斯 梅尔文三世 |
分类号 |
G06F17/50;G03F1/36 |
主分类号 |
G06F17/50 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种决定模型化光罩转角变圆作用的改良制程模型的方法,该方法包含:接收一光罩布局;接收藉由施加一光微影制程至该光罩布局所产生之制程资料;接收一未校正制程模型;指明在该光罩布局中之一组转角;修改邻近该组转角之该光罩布局,以取得一修改光罩布局,其中对该光罩布局的修改关系于光罩转角变圆作用;及藉由使用该修改光罩布局及该制程资料,来校正该未校正制程模型,以决定该改良之制程模型。 |
地址 |
美国 |