用于光阻底层之包含芳香环的聚合物、包含该聚合物之光阻底层组成物及使用该组成物将装置图案化的方法

摘要

揭示用于一光阻底层之包含芳香环的聚合物、包含该聚合物之光阻底层组成物及将装置图案化的方法，以及该聚合物为由下列化学式1表示的包含芳香环的聚合物。;[化学式1];于化学式1中，各取代基系如详细说明中定义的一样。

主权项

一种用于光阻底层之包含芳香环的聚合物，其包含由下列化学式1表示的一单元：其中，R1和R2独立地为氢、C1至C10烷基基团，或一芳香基团，n为一或更多数量的整数，且A为一官能基，其系衍生自下列化学式1b所表示的芳香化合物：其中，R7和R8独立地为氢、羟基基团、烷氧基基团，或C1-C4低级烷基基团，R9和R10独立地为氢、羟基基团、C1-C4低级烷基基团，或烷氧基基团，且X为O(氧)或S(硫)。