发明名称 |
电晶体的制造方法 |
摘要 |
一种电晶体的制造方法。于基底上形成图案化牺牲层,图案化牺牲层包括多个开口,开口暴露基底。以图案化牺牲层为罩幕,对基底进行掺杂制程,以于开口所暴露的基底中形成源极掺杂区与汲极掺杂区。进行选择性成长制程,以分别于源极掺杂区与汲极掺杂区上形成源极与汲极。移除图案化牺牲层,以暴露源极与汲极之间的基底。于源极与汲极之间的基底上形成闸极。 |
申请公布号 |
TWI456664 |
申请公布日期 |
2014.10.11 |
申请号 |
TW100134598 |
申请日期 |
2011.09.26 |
申请人 |
南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
发明人 |
苏国辉;陈逸男;刘献文 |
分类号 |
H01L21/336;H01L21/20 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种电晶体的制造方法,包括:于一基底上形成一图案化牺牲层,该图案化牺牲层包括多个开口,该些开口暴露该基底;以该图案化牺牲层为罩幕,对该基底进行一掺杂制程,以于该些开口所暴露的基底中形成一源极掺杂区与一汲极掺杂区;进行一选择性成长制程,以分别于该源极掺杂区与该汲极掺杂区上形成一源极与一汲极;移除该图案化牺牲层,以暴露该源极与该汲极之间的该基底;于该基底上形成一闸介电材料层,该闸介电材料层覆盖该源极与该汲极;于该闸介电材料层上形成一闸极导体材料层;以及以该源极与该汲极的顶部为研磨终止层,对该闸介电材料层与该闸极导体材料层进行一平坦化制程,以于该源极与该汲极之间的该基底上形成一闸极。 |
地址 |
桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |