发明名称 |
静电吸盘用之吸盘平板的制造方法 |
摘要 |
提供一种:从使用开始之初始起,便难以产生身为应处理基板之晶圆(W)的脱离不良之情况,且生产性为良好的静电吸盘用之吸盘平板之制造方法。;该吸盘平板之制造方法,系为将具备有电极(3a、3b)之吸盘本体(1)的表面作覆盖之由介电质所成的静电吸盘(Es)用之吸盘平板(2)的制造方法,并包含有:将原料粉末压缩成形为特定之形状,而后进行烧结并得到烧结体之工程;和对于烧结体中之与应吸着的基板相抵接之表面,藉由硏磨加工而形成为特定之表面粗度以及平坦度之工程;和施加仅将伴随着硏磨加工而在表面上所产生之即将脱粒的粒子作选择性除去的喷砂处理之工程。 |
申请公布号 |
TWI455791 |
申请公布日期 |
2014.10.11 |
申请号 |
TW098144477 |
申请日期 |
2009.12.23 |
申请人 |
爱发科股份有限公司 日本 |
发明人 |
难波隆宏;森本直树;曾我部浩二;石田正彦 |
分类号 |
B23Q3/15;B65G47/92;H01L21/683 |
主分类号 |
B23Q3/15 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种静电吸盘用之吸盘平板的制造方法,系为将具备有电极之吸盘本体的表面作覆盖之由介电质所成的静电吸盘用之吸盘平板之制造方法,其特征为,包含有:将原料粉末压缩成形为特定之形状,而后进行烧结并得到烧结体之工程:和对于前述烧结体中之与应吸着的基板相抵接之表面,藉由研磨加工而形成为特定之表面粗度以及平坦度之工程;和施加仅将伴随着前述研磨加工而在前述表面上所产生之即将脱粒的粒子作选择性除去的湿喷砂处理之工程,将藉由湿喷砂而喷吹之水压设定为0.01~0.05MPa,并且将压缩空气之压力设定为0.1~0.3MPa。 |
地址 |
日本 |