发明名称 |
挥发性有机化合物处理装置 |
摘要 |
一种挥发性有机化合物(VOC)处理装置,包括至少二吸/脱附塔、一废气供给管路、一吸附后气体排放管路及一触媒氧化处理单元,该废气供给管路交替地连通于该等吸/脱附塔而令该吸/脱附塔进行吸附作业,触媒氧化处理单元同样交替地连通于该等吸/脱附塔以进行脱附作业,该废气供给管路及触媒氧化处理单元并不同时连通于相同的吸/脱附塔,该触媒氧化处理单元包括一热交换器、一触媒反应器、一进气单元、一排气单元。本创作藉由吸/脱附塔与触媒氧化处理单元的互相搭配,可有效去除废气中的VOC,并具有建置成本较低,容易操作、维护等优点。 |
申请公布号 |
TWM487771 |
申请公布日期 |
2014.10.11 |
申请号 |
TW103210848 |
申请日期 |
2014.06.19 |
申请人 |
东虹工程股份有限公司 台北市松山区光复南路1号11楼 |
发明人 |
赖正昕;高庆珅 |
分类号 |
B01D53/86 |
主分类号 |
B01D53/86 |
代理机构 |
|
代理人 |
吴宏亮 台中市南屯区永春东一路549号3楼;刘绪伦 台中市南屯区永春东一路549号3楼 |
主权项 |
一种挥发性有机化合物处理装置,包括:至少二吸/脱附塔,各该吸/脱附塔具有一进气端及一排气端;一废气供给管路,交替地连通于该等吸/脱附塔之进气端,令该吸/脱附塔进行吸附作业;一吸附后气体排放管路,连通于与该废气供给管路连通的吸/脱附塔之排气端;以及一触媒氧化处理单元,交替地连通于该等吸/脱附塔以进行脱附作业,该废气供给管路及触媒氧化处理单元两者并不同时连通于相同的吸/脱附塔,该触媒氧化处理单元包括一热交换器、一触媒反应器、一进气单元、一排气单元、一第一管路、一第二管路、一第三管路及一第四管路,该热交换器具有一冷气通道及一热气通道,该冷气通道之一进气口系藉由该第一管路而与连通于触媒氧化处理单元的吸/脱附塔的排气端连通,该冷气通道之一排气口系藉由该第二管路而与该触媒反应器之一进气口连通,该触媒反应器之一排气口系藉由该第三管路而与该热气通道之一进气口连通,该热气通道之一排气口系藉由该第四管路而与连通于触媒氧化处理单元的吸/脱附塔的进气端连通,该进气单元系连通于第一或第二管路而供导入触媒反应器所需之氧化气体,该排气单元系连通于该第四管路而供排出管路内的部分气体。 |
地址 |
台北市松山区光复南路1号11楼 |