发明名称 记录折射率调变之薄膜
摘要 一种记录折射率调变之薄膜,亦即具有折射率分布之薄膜。具体而言,本发明的薄膜包含具有第1折射率的第1区域、及具有第2折射率的第2区域,且上述第2区域分散在上述第1区域中,并且,于上述记录折射率调变之薄膜的表面,上述第2区域的圆相当直径的平均值大于等于5 μm、小于等于500 μm,且上述第2区域彼此之间隔的平均值大于等于5 μm、小于等于500 μm,第1区域与第2区域的折射率差(△n)为0.001~2.0。本发明的薄膜无需蚀刻加工等复杂的加工技术即可制造。
申请公布号 TWI456785 申请公布日期 2014.10.11
申请号 TW098123226 申请日期 2009.07.09
申请人 三井化学股份有限公司 日本 发明人 高松靖;山本佑五;伊东佑一
分类号 H01L33/00;G02B1/04 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种薄膜,其包含具有第1折射率的第1区域、及具有第2折射率的第2区域,且上述第2区域分散在上述第1区域中,并且,于上述薄膜表面,上述第2区域的圆相当直径的平均值大于等于5μm、小于等于500μm,且上述第2区域彼此之间隔的平均值大于等于5μm、小于等于500μm,上述第1区域与上述第2区域的折射率差(Δn)为0.001~2.0,上述第1区域包括含有环氧化合物的组成物的硬化物,上述第2区域包括含有具有芴骨架的丙烯酸系化合物的组成物的硬化物,自上述第1区域至上述第2区域,折射率呈梯度调变。
地址 日本