| 摘要 |
1. Устройство, содержащее:источник исходного продукта, выполненный с возможностью осаждения материала на нагретую подложку в реакторе осаждения последовательными самонасыщающимися поверхностными реакциями, ипервый пульсирующий клапан, внедренный в источник исходного продукта и выполненный с возможностью управления подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку,при этом устройство выполнено с возможностью пропускания нереакционноспособного газа к картриджу источника исходного продукта с обеспечением поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособного газа к реакционной камере.2. Устройство по п.1, которое выполнено с возможностью закрытия картриджа исходного продукта после поднятия давления до начала следующего периода импульса исходного продукта и с возможностью открытия пути к реакционной камере через пульсирующий клапан при начале следующего периода импульса исходного продукта.3. Устройство по п.1, содержащее второй пульсирующий клапан, внедренный в источник исходного продукта и выполненный с возможностью управления подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку.4. Устройство по п.3, которое выполнено с возможностью пропускания нереакционноспособного газа через второй пульсирующий клапан к картриджу источника исходного продукта с обеспечением поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособ� |
