发明名称 OPC修正方法
摘要 本发明提供了一种OPC修正方法,先在金属线及通孔布图上将连接相同两根金属线且间距小于等于通孔最小设计规则的1.5倍的通孔合并,再进行常规的OPC修正。由于合并的是连接相同两根金属线的通孔,即同电位通孔,并不会造成电路的短路,而且合并通孔的做法能在增大工艺窗口的同时,可以降低电路中的电阻,提高电路的响应频率。用合并通孔的方法增大通孔,解决了在后续的常规OPC修正中易导致光刻工艺窗口过小的问题。
申请公布号 CN104090467A 申请公布日期 2014.10.08
申请号 CN201410331704.7 申请日期 2014.07.11
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 王丹;于世瑞;毛智彪;张瑜
分类号 G03F1/36(2012.01)I 主分类号 G03F1/36(2012.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 王宏婧
主权项 一种OPC修正方法,包括以下步骤:提供一金属线和通孔布图,所述金属线和通孔布图包括多层金属线以及连接不同层金属线的通孔;将连接相同两根金属线且间距小于等于通孔最小设计规则的1.5倍的通孔合并;以及对所述金属线和通孔布图进行OPC修正。
地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号