| 发明名称 | 一种多晶硅太阳能电池叠层减反射膜制备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种多晶硅太阳能电池叠层减反射膜制备的方法。所述方法包括如下步骤：选用P型太阳能级的硅片作为衬底；利用氢氟酸和硝酸混合溶液进行制绒；磷扩散；刻蚀去边；去除磷硅玻璃；利用PECVD制备叠层减反射膜。该方法采用PECVD设备，通过适当改变气体流量比的方法实现叠层减反射膜制备。 | ||
| 申请公布号 | CN104087910A | 申请公布日期 | 2014.10.08 |
| 申请号 | CN201310108909.4 | 申请日期 | 2013.04.01 |
| 申请人 | 北京中科信电子装备有限公司 | 发明人 | 李士会 |
| 分类号 | C23C16/34(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I | 主分类号 | C23C16/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种多晶硅太阳能电池叠层减反射膜制备工艺，其特征在于：将多晶硅片放置于PECVD腔室中；分步向该PECVD腔室送入不同流量配比的气体，依次沉积多层减反射膜。 | ||
| 地址 | 101111 北京市通州区光机电一体化产业基地兴光二街6号 | ||