发明名称 |
位置传感器和光刻设备 |
摘要 |
本发明公开了一种位置传感器和光刻设备。所述位置传感器配置成测量目标的位置数据。位置传感器包括:辐射源,配置成提供辐射束;第一光栅,配置成将辐射束衍射成在第一衍射方向上的至少第一级衍射束;和第二光栅,布置在第一级衍射束的光学路径上,第二光栅配置成在基本上垂直于第一衍射方向的第二衍射方向上衍射在第一光栅处被衍射的第一级衍射束。第二光栅连接至目标。第一检测器配置成检测由第一光栅衍射的束的至少一部分,至少一个第二检测器配置成检测被第一光栅和第二光栅衍射的束的至少一部分。 |
申请公布号 |
CN102314092B |
申请公布日期 |
2014.10.08 |
申请号 |
CN201110147873.1 |
申请日期 |
2011.05.25 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
R·A·C·M·比伦斯;A·F·J·德格鲁特;J·P·M·B·沃麦尤伦 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种位置传感器,配置成测量目标的位置数据,所述位置传感器包括:辐射源,配置成提供辐射束,辐射束具有传播方向;第一光栅,配置成将辐射束衍射成在垂直于传播方向的第一衍射方向上具有传播方向分量的至少第一衍射束;第二光栅,布置在第一衍射束的光学路径上,第二光栅配置成将在第一光栅处被衍射的第一衍射束衍射成在垂直于第一衍射方向和传播方向的第二衍射方向上具有传播方向分量的至少第二衍射束,第二光栅连接至目标;第一检测器,配置成检测由第一光栅衍射的第一衍射束的至少一部分;和第二检测器,配置成检测被第一光栅和第二光栅衍射的第二衍射束的至少一部分。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |