发明名称 一种刻蚀液储液装置及湿法刻蚀设备
摘要 本发明的实施例提供一种刻蚀液储液装置及湿法刻蚀设备,涉及显示技术领域,可降低刻蚀液中杂质离子的浓度,避免刻蚀液的频繁更换,从而保证刻蚀工艺的稳定性,同时还能延长刻蚀液的使用寿命,从而降低成本;所述刻蚀液储液装置包括刻蚀液存储罐、用于将刻蚀液中的离子进行选择性透过的离子交换膜、以及位于所述离子交换膜两侧的阳极和阴极;其中,所述离子交换膜与所述阳极之间构成第一腔室,所述离子交换膜与所述阴极之间构成第二腔室;用于湿法刻蚀设备的制造。
申请公布号 CN104087938A 申请公布日期 2014.10.08
申请号 CN201410273131.7 申请日期 2014.06.18
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 李梁梁;郭总杰;丁向前;刘耀;白金超
分类号 C23F1/08(2006.01)I 主分类号 C23F1/08(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种刻蚀液储液装置,其特征在于,所述刻蚀液储液装置包括刻蚀液存储罐、用于将刻蚀液中的离子进行选择性透过的离子交换膜、以及位于所述离子交换膜两侧的阳极和阴极;其中,所述离子交换膜与所述阳极之间构成第一腔室,所述离子交换膜与所述阴极之间构成第二腔室。
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