发明名称 | 一种基坑加深后的立柱加固结构 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种基坑加深后的立柱加固结构,包括设置在基坑上部的水平支撑梁、与水平支撑梁连接的若干立柱,在基坑的中部对应水平支撑梁的位置设有与立柱相连接的辅助水平梁,在基坑底部位于辅助水平梁下方处设有若干辅助立柱,辅助立柱埋入土层中的深度大于立柱的深度,辅助立柱的上端通过对撑机构与辅助水平梁相连接。本实用新型无需重新灌注立柱,同时可确保立柱的支撑强度,并且提高加深后的基坑侧壁的支护强度,有利于减少工程量,降低支护系统的建造成本。 | ||
申请公布号 | CN203866842U | 申请公布日期 | 2014.10.08 |
申请号 | CN201420153409.2 | 申请日期 | 2014.04.01 |
申请人 | 浙江省建筑设计研究院 | 发明人 | 刘兴旺;李志飙;陈卫林;施祖元;曹国强 |
分类号 | E02D17/04(2006.01)I | 主分类号 | E02D17/04(2006.01)I |
代理机构 | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人 | 尉伟敏 |
主权项 | 一种基坑加深后的立柱加固结构,包括设置在基坑上部的水平支撑梁、与水平支撑梁连接的若干立柱,其特征是,在基坑的中部对应水平支撑梁的位置设有与立柱相连接的辅助水平梁,在基坑底部位于辅助水平梁下方处设有若干辅助立柱,辅助立柱埋入土层中的深度大于立柱的深度,辅助立柱的上端通过对撑机构与辅助水平梁相连接。 | ||
地址 | 310000 浙江省杭州市下城区安吉路18号 |