| 发明名称 | 用于化学气相沉积反应器的气体分配器 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于CVD反应器的气体分配器，所述气体分配器具有至少两个相互分隔的气体分配室(10、20)，能够分别通过进气孔(2、3)向所述气体分配室中输入处理气体，其中，被布置在上平面内的气体分配装置分别与被布置在下平面内的连接管路(13、23)流体连通地连接，其中，属于不同气体分配室(10、20)的连接管路(13、23)交替地相邻布置，并且具有用于输出处理气体的出气孔(14、24)。为了对气体分配装置进行改进，这里建议，数量至少为两个的气体分配装置中的每一个具有分配区段(12、22)，所述分配区段分别与多个二次分配区段(11、21)流体连通地连接，其中，所述连接管路(13、23)分别与多个二次分配区段(11、21)在互相不同的位置上流体连通地连接，其中，互相不同的气体分配室(10、20)的二次分配区段(11、21)交替地相邻布置，并通过分隔壁(9)互相分隔。 | ||
| 申请公布号 | CN104087912A | 申请公布日期 | 2014.10.08 |
| 申请号 | CN201410191366.1 | 申请日期 | 2014.02.17 |
| 申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | T·克鲁肯;B·P·戈皮;M·道尔斯伯格 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
| 主权项 | 用于化学气相沉积反应器的气体分配器，所述气体分配器具有至少两个相互分隔的气体分配室(10、20)，能够分别通过进气孔(2、3)向所述气体分配室中输入处理气体，其中，被布置在上平面内的气体分配装置分别与被布置在下平面内的连接管路(13、23)流体连通地连接，其中，属于不同气体分配室(10、20)的连接管路(13、23)交替地相邻布置，并且具有用于输出处理气体的出气孔(14、24)，其特征在于，数量至少为两个的气体分配装置中的每一个具有分配区段(12、22)，所述分配区段分别与多个二次分配区段(11、21)流体连通地连接，其中，所述连接管路(13、23)分别与多个二次分配区段(11、21)在互相不同的位置上流体连通地连接，其中，互相不同的所述气体分配室(10、20)的二次分配区段(11、21)交替地相邻布置，并通过所述分隔壁(9)互相分隔。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||