一种镀膜方法及其装置

摘要

本发明公开了一种镀膜方法，包括以下步骤：对被镀基材采用真空镀膜方式形成至少一层真空纳米薄膜层；在所述真空纳米薄膜层的表面采用大气镀膜方式形成至少一层大气纳米薄膜层。本发明方法克服了传统真空镀膜及大气镀膜方式各自的弊端，有效地提高了生产效率，实现了连续化生产，同时降低了生产成本。所形成的镀膜层与基材之间结合力强，产品质量优异。本发明还提供一种镀膜装置，包括通过传动系统相连接的至少一个真空镀膜子系统及至少一个大气镀膜子系统。

主权项

一种镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括以下步骤：对被镀基材采用真空镀膜方式形成至少一层真空纳米薄膜层；在所述真空纳米薄膜层的表面采用大气镀膜方式形成至少一层大气纳米薄膜层。