发明名称 一种高密度碳纳米管阵列的制备方法
摘要 本发明公开了一种高密度碳纳米管阵列的制备方法,包括:步骤101、在一基底的表面生长第一碳纳米管阵列;步骤102、对所述第一碳纳米管阵列进行蒸汽收缩处理,使所述第一碳纳米管阵列中碳纳米管之间的间隙变小而形成多个孔洞,以使的所述基底的部分表面从所述孔洞裸露出来;步骤103、在所述基底裸露出来的所述部分表面生长第二碳纳米管阵列;步骤104、重复步骤102和步骤103使所述碳纳米管阵列中的碳纳米管之间的间隙不断变小,以获得所述高密度碳纳米管阵列。采用本发明实施例所述的方法制得的碳纳米管阵列不仅密度大,而且密度分布均匀。
申请公布号 CN104085875A 申请公布日期 2014.10.08
申请号 CN201410250726.0 申请日期 2014.06.06
申请人 华为技术有限公司;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 姚亚刚;李涛涛;徐焰;涂运骅
分类号 C01B31/02(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 C01B31/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种高密度碳纳米管阵列的制备方法,其特征在于,包括步骤:步骤101、在一基底的表面生长第一碳纳米管阵列;步骤102、对所述第一碳纳米管阵列进行蒸汽收缩处理,使所述第一碳纳米管阵列中碳纳米管之间的间隙变小而形成多个孔洞,以使的所述基底的部分表面从所述孔洞裸露出来;步骤103、在所述基底裸露出来的所述部分表面生长第二碳纳米管阵列;步骤104、重复步骤102和步骤103使所述碳纳米管阵列中的碳纳米管之间的间隙不断变小,以获得所述高密度碳纳米管阵列。
地址 518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼