发明名称 Method of plasma processing layer gas sensor sensitive to gas
摘要 <p>Vynález sa týka senzora na presné skúmanie a analýzu plynov, najmä vodíka a/alebo amoniaku, použitím elektrických a elektrochemických prostriedkov. Citlivý element senzora pozostáva z vodivého polyméru, ktorého vonkajší povrch sa opracuje v plazmatickom výboji s teplotou elektrónov (tepelnou kinetickou energiou) 1 až 10 eV a hustotou elektrónov 1014 až 1018 m-3. Plazma je generovaná v kyslíku alebo senzor je následne po plazmatickom opracovaní v inom plyne vystavený prostrediu s obsahom kyslíka. Vodivý polymér je polyanilín alebo polypyrol, alebo polytiofén, alebo ich kombinácia.</p>
申请公布号 SK500482014(A3) 申请公布日期 2014.10.03
申请号 SK20140050048 申请日期 2011.12.16
申请人 ELEKTROTECHNICKY USTAV SAV;CENTRUM VEDECKO-TECHNICKYCH INFORMACII SR 发明人 KUNZO PAVOL;LOBOTKA PETER
分类号 G01N27/12 主分类号 G01N27/12
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利