| 摘要 |
Substratbehandlungsanlage zur Behandlung von Substraten (2) im Durchlaufverfahren in einer Transportrichtung (3), umfassend mindestens eine von Kammerwänden (11, 13, 14, 15) begrenzte Anlagenkammer (1), wobei die Anlagenkammer (1) oder Anordnung von Anlagenkammern (1) eine Eingangsschleuse und eine Ausgangsschleuse aufweist und in der Anlagenkammer (1) eine Transporteinrichtung zum Transport von Substraten (2) in einer Transportebene angeordnet ist, die eine Anordnung von horizontalen, quer zur Transportrichtung (3) angeordneten, drehbaren Transportwalzen (6) aufweist, welche die Transportebene definieren, mit mindestens einer Substratbehandlungseinrichtung (4) und mindestens einem Pyrometer (7) zur Bestimmung der Substrattemperatur, dadurch gekennzeichnet, dass im Innern der mindestens einen Anlagenkammer (1) ein Schutzrohr (8) angeordnet ist, welches sich vom Pyrometer (7) aus von einer unteren Kammerwand (15) unter einem von 90° verschiedenen Winkel zur Transportebene bis zwischen zwei benachbarte Transportwalzen (6) auf ein Substrat (2) zu erstreckt. |
