| 发明名称 |
Siebdruckanlage zum Bedrucken von flächigen Substraten, insbesondere Solarzellen und Verfahren zum Bedrucken von Substraten |
| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Siebdruckanlage zum Bedrucken von Substraten, insbesondere Solarzellen, mit wenigstens einem Drucksieb, wenigstens einer entlang dem Drucksieb bewegbaren Rakel und wenigstens einem Drucknest, wobei das Drucksieb und die Rakel zum Aufdrucken von leitfähigem Klebstoff auf das Substrat ausgebildet sind.</p> |
| 申请公布号 |
DE102013205731(A1) |
申请公布日期 |
2014.10.02 |
| 申请号 |
DE201310205731 |
申请日期 |
2013.03.28 |
| 申请人 |
JRT PHOTOVOLTAICS GMBH & CO. KG |
发明人 |
MESSMER, KLAUS;BAU, MARKUS |
| 分类号 |
H01L31/18;B41F15/16;B41F15/26;B41F15/34;H01L21/68;H05K3/12 |
主分类号 |
H01L31/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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