| 发明名称 | 正型感光性树脂组成物及其图案形成方法;POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SMAE | ||
| 摘要 | 本发明为一种正型感光性树脂组成物，包含：酚醛清漆树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸类之酯化物(B)、还原防止剂(C)以及溶剂(D)。其中，该邻萘醌二叠氮磺酸类之酯化物(B)系将邻萘醌二叠氮磺酸化合物与羟基化合物溶于有机溶剂中，并以胺类化合物作为缩合剂，经缩合反应而得，且于正型感光性树脂组成物中，该胺类化合物之残留量为1ppm至50ppm。 | ||
| 申请公布号 | TW201437760 | 申请公布日期 | 2014.10.01 |
| 申请号 | TW102110678 | 申请日期 | 2013.03.26 |
| 申请人 | 奇美实业股份有限公司 | 发明人 | 刘骐铭;施俊安 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);G03F7/022(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | <name>蔡坤财</name><name>李世章</name> | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 台南市仁德区三甲里59之1号 | ||