发明名称 非挥发性半导体记忆体装置
摘要 本发明提供一种非挥发性半导体记忆体装置,具有共用背闸极的独立双闸极SONOS记忆胞阵列的非挥发性记忆体结构,可应用于三维积成的快闪记忆体上。此种结构由于独立双闸极的控制,具有改善短通道效应、高写入或抹移除效率,及有效避免读取干扰等操作特性上的优点,藉由共用背闸极以及无接面的特性,可大幅简化制程。
申请公布号 TWI455138 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW100120717 申请日期 2011.06.14
申请人 国立交通大学 新竹市大学路1001号 发明人 林鸿志;林哲民
分类号 G11C16/12;H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 G11C16/12
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 一种非挥发性半导体记忆体装置,包括:一第一半导体通道层,包含相对之一第一表面及一第二表面;一第一介面层,系位于该第一表面上;复数个第一闸极,系间隔设置于该第一介面层上;一第二介面层,系位于该第二表面上;及一第二闸极,系位于该第二介面层上,作为该些第一闸极之共用闸。
地址 新竹市大学路1001号