发明名称 |
非挥发性半导体记忆体装置 |
摘要 |
本发明提供一种非挥发性半导体记忆体装置,具有共用背闸极的独立双闸极SONOS记忆胞阵列的非挥发性记忆体结构,可应用于三维积成的快闪记忆体上。此种结构由于独立双闸极的控制,具有改善短通道效应、高写入或抹移除效率,及有效避免读取干扰等操作特性上的优点,藉由共用背闸极以及无接面的特性,可大幅简化制程。 |
申请公布号 |
TWI455138 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW100120717 |
申请日期 |
2011.06.14 |
申请人 |
国立交通大学 新竹市大学路1001号 |
发明人 |
林鸿志;林哲民 |
分类号 |
G11C16/12;H01L21/8247;H01L27/115 |
主分类号 |
G11C16/12 |
代理机构 |
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代理人 |
林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1 |
主权项 |
一种非挥发性半导体记忆体装置,包括:一第一半导体通道层,包含相对之一第一表面及一第二表面;一第一介面层,系位于该第一表面上;复数个第一闸极,系间隔设置于该第一介面层上;一第二介面层,系位于该第二表面上;及一第二闸极,系位于该第二介面层上,作为该些第一闸极之共用闸。 |
地址 |
新竹市大学路1001号 |