发明名称 |
保护膜形成用药液 |
摘要 |
本发明系揭示一种晶圆之拨水性保护膜形成用药液,其特征在于:其系在进行如下晶圆之清洗时用以至少于下述凹部表面形成拨水性保护膜之含有拨水性保护膜形成剂之药液,该晶圆系于表面形成有微细之凹凸图案之晶圆中,该凹凸图案之至少凹部表面之一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌、及矽所组成之群中之至少1种物质之晶圆;且该拨水性保护膜形成剂为非水溶性之界面活性剂。藉由该药液形成之拨水性保护膜可防止清洗步骤中之晶圆之图案崩塌。 |
申请公布号 |
TWI455198 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW099137048 |
申请日期 |
2010.10.28 |
申请人 |
中央硝子股份有限公司 日本 |
发明人 |
斋藤真规;荒田忍;斋尾崇;公文创一;七井秀寿;赤松佳则 |
分类号 |
H01L21/304;C11D1/66 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种晶圆之拨水性保护膜形成用药液,其特征在于:其系在进行如下晶圆之清洗时用以至少于下述凹部表面形成拨水性保护膜之含有拨水性保护膜形成剂之药液,该晶圆系于表面形成有微细之凹凸图案之晶圆中,该凹凸图案之至少凹部表面之一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌、及矽所组成之群中之至少1种物质之晶圆;且该拨水性保护膜形成剂为非水溶性之界面活性剂。 |
地址 |
日本 |