发明名称 利用被测量物之反射光的光学特性测量装置及该测量装置之调焦方法
摘要 观察用光源产生的观察光之光束截面的光强度(光量)大体上均一。利用光罩部(26a)遮蔽此观察光的一部分,在其光束截面中相当于刻线板影像的区域之光强度大体上为零。形成相当于此刻线板影像的阴影区域的观察光系在分光器(20)被反射且被照射至被测量物(OBJ)。基于对应被投射至此被测量物(OBJ)的刻线板影像之反射影像的浓淡差(对比),判断对被测量物(OBJ)的测量光之聚焦状态。
申请公布号 TWI454746 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW097116623 申请日期 2008.05.06
申请人 大塚电子股份有限公司 日本 发明人 藤森匡嘉;泽村义巳;山崎圭司
分类号 G02B27/40;G02B27/64 主分类号 G02B27/40
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种光学特性测量装置,包括:测量用光源,产生包含对被测量物之测量范围的波长之测量光;观察用光源,产生包含可在前述被测量物反射的波长之观察光;聚光光学系统,被入射前述测量光及前述观察光,并将入射的光聚光;调整机构,可变更前述聚光光学系统及前述被测量物之间的位置关系;光注入部,在由前述测量用光源起至前述聚光光学系统的光学路径上的预定位置中注入前述观察光;光罩部,在由前述观察用光源起至前述光注入部的光学路径上的预定位置中,遮蔽前述观察光的一部分,以投射观察基准影像;针孔反射镜,将在前述被测量物产生的反射光分离成测量反射光及观察反射光;聚焦状态判断部,基于对应前述观察反射光包含的前述观察基准影像之反射影像,判断前述被测量物上之前述测量光的聚焦状态;及位置控制部,根据前述聚焦状态的判断结果,控制前述调整机构。
地址 日本