| 发明名称 | 有序三维纳米结构阵列的卷对卷制造方法及其材料和产品 | ||
| 摘要 | 本发明公开了预定或有序三维纳米结构阵列的卷对卷制造方法、及其相关材料和制造品。所述方法可以包括：通过在衬底上滚动包括结构的二维阵列的圆筒形图案，来压印衬底以具有二维图案。此外，还提供了通过对工艺参数的控制来控制或确定纳米结构参数。 | ||
| 申请公布号 | CN104078532A | 申请公布日期 | 2014.10.01 |
| 申请号 | CN201410123263.1 | 申请日期 | 2014.03.28 |
| 申请人 | 香港科技大学 | 发明人 | 范智勇;梁兆丰 |
| 分类号 | H01L31/20(2006.01)I;H01L31/0236(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/06(2012.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 主分类号 | H01L31/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 陈源;顾丽波 |
| 主权项 | 一种方法，包括：接收衬底；以及压印所述衬底以具有二维（2‑D）图案，该步骤包括：在所述衬底上滚动包括结构的二维阵列的圆筒形图案，其中所述二维图案对应于将要形成在所述衬底上的预定三维（3‑D）纳米结构。 | ||
| 地址 | 中国香港九龙清水湾 | ||