发明名称 |
垂直式电晶体及其制造方法 |
摘要 |
一种垂直式电晶体,包括:一基底、一基底氧化层、一磊晶矽层、一绝缘氧化层、二闸极氧化膜及一闸极堆叠层,该基底氧化层设于基底上,该基底氧化层凹设有一闸极凹槽,该基底之表层内相对于闸极凹槽设有至少一第一掺杂区,该磊晶矽层设于该基底及基底氧化层上,磊晶矽层之表层内设有至少一第二掺杂区,该绝缘氧化层设于磊晶矽层上,该二闸极氧化膜设于磊晶矽层相对之二侧,该闸极堆叠层堆叠于二闸极氧化膜及基底氧化层上;藉此,相较于传统之平面式电晶体,可大幅降低电晶体横向单位面积,增加半导体元件之积集度,且能保持电晶体之效能。本发明另提供一种垂直式电晶体制造方法。 |
申请公布号 |
TWI455291 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW098136881 |
申请日期 |
2009.10.30 |
申请人 |
华亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡复兴三路667号 |
发明人 |
陈昕辉;李中元 |
分类号 |
H01L27/108;H01L29/78;H01L21/8242;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L27/108 |
代理机构 |
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代理人 |
庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼 |
主权项 |
一种垂直式电晶体,包括:一基底;一基底氧化层,其设于该基底上,该基底氧化层凹设有一闸极凹槽,该基底之表层内相对于该闸极凹槽设有二第一掺杂区,且该二第一掺杂区之间设有一浅凹沟绝缘区;一磊晶矽层,其设于该基底及该基底氧化层上,该磊晶矽层之表层内设有至少一第二掺杂区;一绝缘氧化层,其设于该磊晶矽层上;二闸极氧化膜,其设于该磊晶矽层相对之二侧;以及一闸极堆叠层,其堆叠于该二闸极氧化膜及该基底氧化层上。 |
地址 |
桃园县龟山乡复兴三路667号 |