发明名称 垂直式电晶体及其制造方法
摘要 一种垂直式电晶体,包括:一基底、一基底氧化层、一磊晶矽层、一绝缘氧化层、二闸极氧化膜及一闸极堆叠层,该基底氧化层设于基底上,该基底氧化层凹设有一闸极凹槽,该基底之表层内相对于闸极凹槽设有至少一第一掺杂区,该磊晶矽层设于该基底及基底氧化层上,磊晶矽层之表层内设有至少一第二掺杂区,该绝缘氧化层设于磊晶矽层上,该二闸极氧化膜设于磊晶矽层相对之二侧,该闸极堆叠层堆叠于二闸极氧化膜及基底氧化层上;藉此,相较于传统之平面式电晶体,可大幅降低电晶体横向单位面积,增加半导体元件之积集度,且能保持电晶体之效能。本发明另提供一种垂直式电晶体制造方法。
申请公布号 TWI455291 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW098136881 申请日期 2009.10.30
申请人 华亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡复兴三路667号 发明人 陈昕辉;李中元
分类号 H01L27/108;H01L29/78;H01L21/8242;H01L21/336 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人 庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 一种垂直式电晶体,包括:一基底;一基底氧化层,其设于该基底上,该基底氧化层凹设有一闸极凹槽,该基底之表层内相对于该闸极凹槽设有二第一掺杂区,且该二第一掺杂区之间设有一浅凹沟绝缘区;一磊晶矽层,其设于该基底及该基底氧化层上,该磊晶矽层之表层内设有至少一第二掺杂区;一绝缘氧化层,其设于该磊晶矽层上;二闸极氧化膜,其设于该磊晶矽层相对之二侧;以及一闸极堆叠层,其堆叠于该二闸极氧化膜及该基底氧化层上。
地址 桃园县龟山乡复兴三路667号