积体电感结构以及积体电感结构制造方法;INTEGRATED INDUCTOR AND INTEGRATED INDUCTOR FABRICATING METHOD

摘要

本发明系提供一种积体电感结构以及一种积体电感结构制造方法,该积体电感结构包含有:一半导体基底、复数个直通矽晶穿孔以及一电感。该些直通矽晶穿孔系形成于该半导体基底中并排列成一特定图案,且该些直通矽晶穿孔中系填充一金属材料,以形成一图案式接地防护;以及该电感系形成于该半导体基底上方。该积体电感结构制造方法包含有:形成一半导体基底;于该半导体基底中形成复数个直通矽晶穿孔,并将该些直通矽晶穿孔排列成一特定图案;于该些直通矽晶穿孔中填充一金属材料,以形成一图案式接地防护;以及于该半导体基底上方形成一电感。